Nedávné informace o tom, že Čína možná zahájila výrobu svých vlastních litografických strojů typu DUV, vzbudily nemalý rozruch na globálních trzích. Tato technologie, klíčová pro produkci mikročipů a polovodičů, je tradičně doménou západních firem, přičemž nizozemská společnost ASML vládne tomuto sektoru. Po zveřejnění informací zaznamenaly její akcie krátkodobý pokles, což odráží investiční nervozitu kolem možného prolomení technologického monopolu.
Analytici však zůstávají skeptičtí ohledně významu tohoto čínského kroku. Stéphane Houri z ODDO BHF varuje, že čínská produkce může být omezena na nižší segment trhu, a to nejen kvůli kvalitativním rozdílům, ale i kapacitním omezením. Sporným bodem zůstává schopnost čínských strojů dosáhnout podobné výtěžnosti jako zařízení ASML, což je klíčový faktor pro efektivitu výroby mikročipů.
Nick Patience z Futurum Group upozorňuje, že i dnes dovážené DUV stroje používané v Číně zaostávají za těmi v továrnách jako například u tchajwanské TSMC. Spolehlivost a konkurenceschopnost strojů přichází s dlouholetým vývojem a zdokonalováním, což Čína zatím nemá.
Další komplikací je pro Čínu výrobní kapacita. Plány na produkci pouhých pěti DUV strojů v letošním roce a dvaceti v příštím působí nevýrazně v porovnání s plánem ASML dodat v roce 2026 přes 130 imerzních DUV systémů. Analytici z SemiAnalysis proto upozorňují, že schopnost masové produkce je podceňovanou výzvou tohoto projektu.
I kdyby Čína dosáhla úspěchu, nemusí to pro ASML znamenat zásadní problém. Kvůli exportním omezením ASML už nyní do Číny nemůže prodávat některé nejmodernější stroje, takže domácí výroba těchto zařízení by nahradila produkty, které se na čínský trh stejně nedostanou.
Na první pohled tak pokus Číny o výrobu DUV strojů vypadá slibně, ale otázky o schopnosti konkurovat zavedeným technologickým gigantům zůstávají otevřené.
